(1)化學(xué)法
濃硝酸HN031000mL
氯化鈉NaCl40g
溫度65～750C
速度約6μm/min
注意事項：
?、俨缓细竦牡湾a青銅鍍層退除后，底層金屬表面光潔，不必拋光，但必須嚴(yán)格控制工藝條件;
?、谌坑脻庀跛?，不能有水，以防基體金屬腐蝕;
③溫度不能超過工藝條件規(guī)定，部分基體金屬鐵被腐蝕;
④化學(xué)法可退除鎳、鋅鎳、銅、銅錫合金等鍍層，速度快、成本低、效果好。因析出氣體，需有抽風(fēng)設(shè)備。
(2)電化學(xué)法
| 三乙醇胺[N(CH2CH20H)3] | 60～70g／L |
| 氫氧化鈉(NaOH) | 60～75g／L |
| 硝酸鈉(NaN03) | 15～20g／L |
| 溫度 | 35～50℃ |
| 陽極電流密度 | l．5～2．5A／dm2 |
| 陽極移動速度 | 20～25r／min |
| 陰極 | 鐵或不銹鋼板 |
| 速度 | 約20gm／h |
以上信息僅供參考
